Les processeurs pourraient bientôt coûter moins cher grâce à ces machines surpuissantes

 
Fabriquer des processeurs exige une précision diabolique. Le géant néerlandais ASML vient de repousser les limites de la physique avec une machine capable de générer un plasma plus chaud que le Soleil. À la clé : une production de puces boostée de 50 % d’ici 2030 et un coup de grâce pour ses rivaux.
Crédits : Unsplash

Le marché des semi-conducteurs ressemble de plus en plus à un thriller géopolitique. Au centre de l’échiquier trône ASML, l’unique entreprise au monde capable de fournir les précieux scanners à lithographie extrême ultraviolette (EUV). Ces monstres d’ingénierie sont indispensables à des géants comme TSMC, Intel ou SK Hynix pour graver les puces de pointe qui animent nos smartphones et nos futurs serveurs IA. Mais la couronne du Néerlandais attire les convoitises, poussant la firme à innover brutalement pour garder sa longueur d’avance.

Les chercheurs d’ASML ont réussi à pousser la puissance de leur source lumineuse EUV à 1 000 watts, pulvérisant le plafond actuel d’environ 600 watts. Concrètement, cette débauche d’énergie permet de réduire le temps d’exposition des tranches de silicium. Teun van Gogh, responsable de la gamme NXE, l’affirme : d’ici la fin de la décennie, les usines pourront engloutir 330 wafers par heure contre 220 aujourd’hui. Une cadence infernale qui fera mécaniquement chuter le coût de fabrication de chaque processeur.

Tirs de laser et étain en fusion : la recette d’un exploit

Pour comprendre ce saut quantique, il faut se pencher sur la mécanique délirante de l’EUV. La machine tire un puissant laser au dioxyde de carbone sur de microscopiques gouttelettes d’étain en fusion. L’impact génère un plasma dont la température dépasse celle du Soleil, émettant une lumière d’une longueur d’onde de 13,5 nanomètres, ensuite canalisée par des optiques de très haute précision fournies par l’Allemand Carl Zeiss AG.

Pour franchir le cap du kilowatt, ASML a doublé la cadence pour frapper 100 000 gouttes par seconde, tout en remplaçant l’impulsion laser unique par une double frappe pour mieux modeler le plasma. Et Michael Purvis, technologue en chef chez ASML, l’assure : ce n’est pas un simple tour de passe-passe de laboratoire, le système tient la charge dans les strictes conditions d’utilisation des clients. L’entreprise évoque d’ailleurs déjà une voie claire vers les 1 500, voire 2 000 watts.

ASML doit protéger son monopole face aux embargos qui interdisent l’exportation de ses machines les plus avancées vers la Chine. Privé de ces outils, l’Empire du Milieu bricole sa propre chaîne d’approvisionnement en contournant les sanctions. Huawei mène la fronde depuis une immense usine à Guanlan, ciblant la gravure en 7 nm en récupérant des pièces d’anciennes machines ASML sur le marché secondaire, avec l’espoir pour le gouvernement chinois d’obtenir un prototype fonctionnel d’ici 2028.

Pendant ce temps, les États-Unis subventionnent leurs propres alternatives. Des startups américaines comme Substrate ou xLight (liée à Pat Gelsinger et soutenue par des fonds de l’administration Trump) ont levé des centaines de millions de dollars.


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